一种硒化亚锡纳米片中硒空位缺陷的修复方法

发布日期:2025年06月19日    浏览次数:9

■所属领域:新材料技术

■项目来源:深圳大学

■转让方式:技术转让、技术许可(授权)

■项目简介:本发明涉及一种硒化亚锡纳米片中硒空位缺陷的修复方法,通过对硒化亚锡纳米片中的硒空位缺陷进行修复,有效提高了硒化亚锡纳米片的电导率。